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產(chǎn)品簡介:熱膨脹儀制造商Linseis研發(fā)的單桿-、雙桿-、差示-、四桿-、淬火-( 熱膨脹相變儀)、激光和光學(xué)法膨脹儀等多種設(shè)備。Linseis多年的研究經(jīng)驗(yàn)(始于1953年),Linseis的具有的優(yōu)異性能。
產(chǎn)品型號:
更新時(shí)間:2024-10-29
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:19734
86-021-50550642
產(chǎn)品分類
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為了測量數(shù)據(jù)和拓寬測量范圍,可以使用QMS和FTIR對逸出的氣體進(jìn)行分析。耦合后的功能超過單獨(dú)部件的總和。用戶通過LINSEIS耦合技術(shù)和綜合硬件和軟件,采用不同數(shù)據(jù)庫對數(shù)據(jù)進(jìn)行分析以得到*的結(jié)果。
熱膨脹儀參數(shù):
型號 | DIL L75 HP / 1 | DIL L75 HP/2 |
溫度范圍* | RT -- 1100°C | RT -- 1400/1800°C |
zui大壓力 | zui大150 bar | zui大100 bar |
真空 | 10E-4 mbar | 10E-4 mbar |
樣品支架 | 熔融石英 < 1100°C | 熔融石英 < 1100°C |
Al2O3 < 1750°C | Al2O3 < 1750°C | |
zui大樣品長度 | 50 mm | 50 mm |
樣品直徑 | 7/12/20 mm | 7/12/20 mm |
可調(diào)樣品壓力 | zui大 1000 mN | zui大 1000 mN |
測量范圍 | 500 / 5000 µm | 500 / 5000 µm |
分辨率 | 0.125 nm | 0.125 nm |
可選裝置 | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) |
氣氛 | 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空 | 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空 |
* 取決于不同爐體 | ||
** 不適用于石墨加熱爐 |
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